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突破国外技术封锁 稀土抛光材料迎来春天
发布时间:2021-04-08 浏览次数:962


来源:内蒙古新闻网

日前,从包头中科雨航抛光材料有限公司传出消息,该公司已建成年产6000吨稀土抛光粉生产线,一举打破国外企业对高档抛光粉市场的垄断。

“生产线拥有国内最长的75米长抛光粉生产辊道窑,整个生产过程采用电脑控制,充分满足氧化及晶格转换时间,满足‘氧化及晶体增长’要求,使抛光粉质量大幅度提高。”中科雨航董事长张海龙说。

◆抛光材料大有可为

近年来随着液晶显示器的产业的兴起与不断壮大,高性能液晶抛光粉得到了快速发展。“稀土抛光材料在工业发达国家的稀土用量中占有很高的比例,其产量和用量的大小从某种程度上能反映一个国家科技发展的速度和水平。”中国科学院教授洪广言说道。

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。

稀土抛光材料作为研磨抛光材料以其粒度均匀、硬度适中、抛光效率高、抛光质量好、使用寿命长以及清洁环保等优点,已经广泛应用于光学玻璃、液晶玻璃基板以及触摸屏玻璃盖板的抛光。

据张海龙介绍,目前国内抛光粉的应用从80年代的不足40吨/年到目前已超过20000吨/年;国外的消费以东亚和东南亚为主,其中日本是最大的消费者,每年有600吨左右的量,日本主导了全球新兴显示装置的开发,阴极射线管和液晶显示装置生产厂遍布世界各地,是铈基玻璃抛光粉的主要消费者。

“现在日本和韩国的抛光粉企业购买中国的中低档抛光粉作为原料,利用他们的技术生产高档抛光粉,除了在国内消费外,部分出口到中国和欧美等国,赚取高额利润。中国所用的高档抛光粉大多从日本和韩国进口。”中科雨航研发部主任王红艳说道。

为了改变我国稀土抛光材料落后现状,制定了《稀土行业发展规划(2016-2020年)》。规划中明确指出“要开发高性能稀土抛光粉和稀土抛光液,产品达到或接近国际先进水平,满足液晶、硅晶片、高档玻璃基片抛光等应用要求”。

“政策导向性非常明显,我们在抛光材料方面大有可为。”洪广言说。

◆抛光产业顺势起航

洪广言坦言,从总的趋势来讲,稀土抛光材料生产的多元化形态将得到进一步的强化,经济与科学技术的发展要求更多的氧化铈抛光材料新品种面世。

随着全球经济的发展,我国稀土产业也得到了飞速发展,但作为北方轻稀土矿主要元素的镧、铈的应用一直未能有突破性的进展,镧、铈产品价格一直在低位徘徊。

“目前镧铈产品在国外的主要应用领域依然在玻璃研磨行业,从细分上可分为工业研磨及民用研磨。”王红艳说。

工业研磨主要为稀土抛光粉,生产主要分布在日本、韩国、法国、美国等地区,其中、日本、韩国的抛光粉需求量高,对产品要求也高,而日本、韩国的生产工艺水平亦属国际领先,主要领先在先进的焙烧工艺和粉体分级工艺上,因此在TFT液晶基板等高端抛光粉市场上占有很大份额,目前在世界上仍处于主导地位。

“开发镧铈稀土下游技术应用,拓宽稀土高端应用领域,促进我国半导体、信息化等产业发展,这是我们的使命。”张海龙说道。

稀土抛光材料研制及其产业化项目应运而生,该项目确定了以碳酸稀土为原料制备高性能氧化铈抛光材料的基本方法,并在此过程中添加适当的辅助材料来改善烧成氧化物的表面特征和球形度,外加适宜的后处理与表面修饰方法制备出了具有优异抛光性能的新型高性能氧化铈抛光材料。

王红艳介绍,他们首次采用前驱体粉体选择性球化技术,对颗粒的表面电位进行控制,改善粉体形貌的同时改善产品的分散性;采用极性表面修饰材料控制颗粒生长;同时改变了国内近年来在超细和纳米稀土粉体的工艺上主要集中在化学法而不易控制的缺陷。以水和碳酸铈直接为原料利用机械化学反应法改性,加入惰性盐类,制备20纳米到50纳米高性能研磨材料,成本低廉、易于操作,工业化前景广阔。

“我们生产的抛光液产品粒径在20--50nm,晶型一致性达到95%,磨削力高于国内同行业30%,使用过程无划伤,抛光优良率达到99%;抛光速度快,耐磨性提高26%;悬浮分散性好,产品质量达到国际领先水平。特别是抛光片,不仅在技术上赶超了世界先进水平,填补了我国没有抛光片的历史,打破了国外企业的垄断,而且延长了产业链,增加了镧铈产品附加值,具有良好的经济效益和社会效益,对未来缓解贸易战造成的冲击将起到积极作用。”王红艳说道。

目前一期项目投资1.2亿元,建设占地40亩,两条全自动生产线,产能6000吨抛光粉/年。预计产值突破1.8亿元,利税突破6百万元。(记者张海芳通讯员李宝乐)